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產品資料
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日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統

產品名稱: 日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統
產品型號: VE-2012
產品特點: 日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統
VE-2012是一種簡單的真空氣相沉積系統,它繼承了VE-2030(由我們公司制造)的概念。

日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統 的詳細介紹

日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統

 

通過在外殼中內置TMP來實現緊湊的外殼。由于它是臺式機類型,因此不會占用空間。RP被放置在地板上。
我們以低價提供帶有小TMP + RP排氣系統的清潔,高真空氣相沉積設備。一個簡單的操作系統,消除了復雜的排氣操作,僅打開和關閉開關。
可以使用鎢筐沉積金,鋁,鉻,銀等。對于碳氣相沉積,使用了一種鉗式氣相沉積槍型,它會隨著碳的蒸發而蒸發鋒利的鉛筆型替換芯。(不能使用Φ5mm碳棒。)

購買時,我們將選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。可以選擇購買其他電極。

碳蒸鍍電極

Φ0.5mm碳蒸鍍電極,僅用于碳。
它能夠在高真真空區中沉積碳,并且可以形成具有優異膜質量和膜強度的碳膜。
附帶的防污蓋可醉大程度地減少碳蒸氣沉積的擴散范圍,并減少清潔負擔。
建議使用碳SLC-30作為碳氣相沉積源。

金屬氣相

沉積電極這是專門用于鎢筐的金屬氣相沉積電極。
可以輕松地沉積金,鋁,鉻等。隨附的防污罩可醉大程度地減少氣相沉積范圍,并減少清潔負擔。

主要產品規格

項目規范
電源AC100V(單相100V15A)
裝置尺寸寬400毫米,深425毫米,高546毫米
(設備重量25千克)
旋轉泵(外部)排氣速度50?/ min(G-50DA)
(重量11kg)
渦輪泵(內置裝置)排氣速度67?/秒
樣品臺直徑72毫米
沉積源-樣品臺間距可在0毫米至140毫米范圍內調節

關于選項

選配

2018.11.01

選配

對于氣相沉積設備,我們為各種實驗應用提供大量選擇。此選項是一個正常的示例。我們也接受根據客戶所需規格的修改,因此請與我們聯系。VE-2012 ...

 

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