我們將介紹通過應用等離子體的高反應性而獲得的“表面改性”和“清潔效果”的原理。 | ||||
等離子體表面改性的原理 | ||||
當用 主要用途 | ||||
大氣壓等離子體 | ||||
附著在基板上的有機物質與等離子體中的活性分子發生反應,并在受到等離子體照射時蒸發。 主要用途 |
日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts
用于板狀,纖維狀和薄膜狀物體的表面改性和清潔。
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