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技術文章

表面改性/清潔原理-sakigakes等離子體裝置NMR-Gts

我們將介紹通過應用等離子體的高反應性而獲得的“表面改性”和“清潔效果”的原理。

 
等離子體表面改性的原理
 
 

當用
等離子體輻照基板(不銹鋼,玻璃,PP,鋁,硅等)時,等離子體的離子化分子(OH基等)在表面上被修飾,從而大大提高了水的潤濕性。

主要用途
改善涂料的潤濕性

 
 
大氣壓等離子體
 
 

附著在基板上的有機物質與等離子體中的活性分子發生反應,并在受到等離子體照射時蒸發。
這使得無需清潔劑就可以去除有機物質。

主要用途
去除附著在有機EL腔室側壁上的有機物
清潔電極表面
改善粘合性能等

日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts

 用于板狀,纖維狀和薄膜狀物體的表面改性和清潔。

 

小型真空等離子設備NMR-Gts

■業界醉低的價格(根據我們的研究)
■直徑為100毫米(高度為5毫米或更小)的物體可以進行等離子處理
■像家用電器一樣易用(易于處理)
■易于維護
用于板狀,纖維狀和薄膜狀物體的表面修飾/清潔用于
粘附,印刷和涂層的預處理用于
細胞培養容器的預處理(提高植入和增殖能力)
醫用材料滅菌至
設備名稱小型真空等離子設備
型號NMR-Gts
外部尺寸230mm(W)x 221mm(D)x 120mm(H)
重量4kg
放電部件尺寸直徑100mm(圓形)電極之間的距離6mm(H)
電源輸出 電源
無需壓力調節
100V (50Hz / 60Hz)

 日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts

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